客服热线:400-650-7658 0316-7678695English日本語
行业新闻
首页 > 新闻动态> 行业新闻

两大晶圆厂,有了新目标

时间: 2022-12-26浏览次数:364
  

两大晶圆厂,有了新目标



台湾晶圆代工成熟制程两大指标厂联电、力积电在疫情带来的订单红利消退之际,均积极强化特殊制程,其中,联电强化车用等多元应用,力积电则锁定真3D堆叠异质整合技术,盼能成为抵御市场库存修正的利器。



联电在特殊制程应用广结盟,先前与电子设计自动化(EDA)大厂Cadence合作,Cadence的类比与混合讯号芯片设计流程,获得联电22纳米超低功耗(22ULP)与22纳米超低漏电(22ULL)制程认证,此流程可优化制程效率、缩短客户设计时间,加速5G、物联网和显示等应用设计开发,满足日渐增高的市场需求。



联电强调,该公司持续开发先进的特殊制程以供应快速成长的5G、物联网和显示等芯片市场,相较于28纳米制程,22纳米制程能再缩减10%的晶粒面积、拥有更佳的功率效能,以及强化射频性能等特点。



联电车用布局同步大跃进,陆续拿下德仪、英飞凌等车用芯片大厂新认证,八大关键领域车用认证都到手,通吃全球一线车厂大单。



力积电则动员集团之力,抢攻真3D堆叠异质整合技术等利基型应用,先前携手爱普与台积电,共同完成全球首个DRAM与逻辑芯片的「真3D堆叠异质整合技术」,随后在台积电号召全球指标厂合作,整体量能扩大,使力积电和爱普更具能见度。



业界分析,半导体封装技术已从传统的2D封装演进到2.5D,再到真正的3D封装技术,由于3D封装采用垂直连接的方式,其连接数量几乎不会受限,得益于此,相较于2.5D封装,逻辑芯片与DRAM的3D整合将可在显著降低传输功耗的同时,大幅提升记忆体的频宽。



转载微信公众号:半导体行业观察


声明:本文版权归原作者所有,转发仅为更大范围传播,若有异议请联系我们修改或删除:zhangkai@cgbtek.com


大正华嘉科技(香河)有限公司 Copyright © 2019   冀ICP备19024009号