乌克兰已经作出决定！关于芯片制造，ASML担心的事发生了
乌克兰已经作出决定！关于芯片制造，ASML担心的事发生了
一定程度上，伴随着全球市场化“波动”的跌宕起伏，外界愈发认识到努力实现科技自主化，更是保障市场全球化合作的重中之重！
比如，强调协同合作、又存在着博弈，竞争近乎白热化的半导体产业：既是全球市场化合作的结晶，也存在自主科技实力的较量……
一个比较典型的例子是：
光刻机设备组装巨头的荷兰ASML公司，凭借着整合全球各国地区的精密零部件，实现了芯片制造关键设备——光刻机产品技术领先！
正在组装中的半导体芯片加工产线设备
实际上，也不不仅是荷兰ASML公司组装「光刻机」所需的各类精密零部件、核心元器件等，来自全球市场化体系中的诸多国家和地区供应……
采购了荷兰ASML光刻机等配套设备后、进行硅基材料半导体芯片的制造厂商们，在替诸多芯片研发设计企业代工的时候，同样依赖全球市场化体系中的基础材料供应！
2019年的时候，日本方面突然“断供”韩国半导体企业，外界进一步关注到了「光刻胶」等半导体芯片制造所需的基础材料。
一场所谓的「俄乌」争端事件出现之际，荷兰ASML在2022年2月下旬就公开呼吁：
一定要尽快寻找「俄乌以外」的半导体材料供应商！
荷兰ASML如此紧迫呼吁的前提是，适用于光刻机设备加工芯片的基础材料，一度高达70%份额「掌握在俄乌企业」手里……（电子材料市场调查机构Techce公开数据）
来源网络的「混合气体」提纯设备之一
此前俄乌方面合作的氖气（Ne）供应流程是，由俄罗斯当地的企业生产制造，乌克兰当地的企业进一步提纯！
时间来到2022年3月份，ASML担心的事发生了！
乌方暂停供应！关于芯片制造所需的材料，荷兰ASML担心的事发生了……
相关科技资讯纷纷援引英国路透社等外媒消息称：乌克兰已经作出决定，当地两大氖气（Ne）提纯生产商的Ingas和Cryoin暂停营运，不再面向全球市场供应氖气（Ne）~
需要了解的是，位于乌克兰的这两家 氖气（Ne）提纯生产厂商，此前占到了全球市场高达45%-54%左右的份额！
实际上，俄乌合作产生的不仅有氖气（Ne），即使另外的氪气（Kr）、氙气（Xe），也分别占到了全球市场供应份额40、30%……
这里面，包括了全球性半导体巨头企业的美国英特尔，以及此前有些故作淡定表示“咱有库存，先不要慌”的美国美光半导体……
虽然并没有彻底完全「中断供应」占比70%份额的所有供应，但也足够 美国当地的众多半导体业 好好“喝一壶”了~
美国IBM展示技术突破2nm制程工艺芯片
俄乌合作供应氖气（Ne）等面向全球，为何说“美国半导体企业相对更着急”？
相关公开数据指出：美国当地半导体行业所需要的氖气（Ne），尤其是适用于光刻机设备进行芯片制造「高纯度」合规氖气（Ne），高达90%份额以上由乌克兰供应！
关于芯片制造，乌克兰已经作出决定：暂停供应氖气（Ne）等、半导体制造所需的基础关键加工材料，ASML担心的事还是发生了……
似乎还会有人“抬不起头”发出质疑、或者出于关心国产：美国半导体企业都“紧张”了，咱们中国的半导体企业呢？
事实上，虽然在先进EUV光刻机设备方面还有进步的空间，但如同此前「国产蚀刻机」通过台积电技术验证……我们自给自足的氖气（Ne）等供应企业，相当的靠谱！
早在大约5年前的2017年，国内可以供应「光刻气体」级别的某家企业（具体是哪家企业，行业都很清楚，这里避嫌不提了~）就已经通过了荷兰ASML产品技术认证！
所以说，在适用于光刻机进行半导体芯片制造、极高纯度的氖气（Ne）供应方面，咱们中国的半导体企业完全不用担心！
紫外光源技术的光刻机制造芯片（示意图
值得一提的是，不同于美国当地半导体业“依赖”俄罗斯生产制造、乌克兰进一步提纯的「光刻气体」芯片制造基础材料，我们中国企业自给自足之余、还面向市场供应！
韩国与日本同样依赖氖气（Ne）进口，也跟美国那样从乌克兰采购高纯成品；但这两家也从我们中国市场进行采购，韩国半导体行业甚至消耗了我国近60%产能……
援引某份《全球电子稀有气体市场研究报告》数据：2021年，我们中国企业进口的氖气，仅仅只有4783立方而已~（外界认为，这更侧重出于市场化合作共赢的意义）
要知道，我国同年出口氖气（Ne）高达65000立方，等于出口量约是进口量的14倍！
中国特种气体市场资深分析师「任路」，此前接受「环球时报」访谈时也指出：较高纯度的氖、氪、氙是半导体行业刚需，却也只是钢铁行业的“副产品”进一步提纯而已~
我们“刚好”是全球级、钢铁制造产业的大国……
适用于时下主流的紫外光源技术路线、光刻机设备制造硅基材料芯片的氖气，乃至更多「光刻气体」基础材料的全球市场供应紧张，不会影响我们中国的半导体产业~
紫外光源对晶圆进行镭射影印（示意图）
实事求是的说，通过光刻机紫外光源技术制造芯片时，需要消耗氖气（Ne）等高纯度「光刻气体」材料，却也仅在芯片制造流程「镭射阶段」才会用到……
譬如位于我国台湾地区的晶圆厂商——力积电，也存在同行 台积电 相关的芯片制造业务，其曾在接受媒体问询时透露：1瓶氖气（Ne）大概可以使用2个月左右。
倘若真如「力积电」所说“自己厂里的氖气（Ne）足够制程6-9个月左右”，那作为全球市场“数一数二”晶圆大厂「台积电」方面的库存想必只会更多……
所以说，一度让荷兰ASML担心“供应失衡”的 氖气（Ne），到底是什么？
其实，适用于光刻机紫外光源技术芯片制造流程的氖气，可以从钢铁制造产业产生的“副产品”进一步提纯而来！
一种无色、无味的稀有惰性气体，常温不会自主燃烧、也没有助燃的作用……
人们常见的霓虹灯能够多姿多彩，实际上内部就是充装了氖气（不需要极高纯度），因为氖气（Ne）被动发生低压放电时，基于红色区域会显示出明显的发射谱线！
光源折射后的变化（示意图）
也就是说，经过进一步提纯后“身价倍增”的氖气（Ne），源于高纯度氖气（Ne）在半导体产业的应用……之所以被应用到了半导体行业，则是不断缩小的纳米工艺需求！
芯片研发设计企业的性能与效能需求提高、芯片代工制造厂商的新制程工艺技术提升、芯片制造设备厂商的光刻机产品不断迭代，让硅基材料芯片的技术变得激进~
即使是近些年来，也从几百纳米级别进化到了几十纳米，然后我们看到“个位”纳米级的7nm、5nm、3nm乃至2nm、1nm已经或准备登场……
结果就是，光刻机在晶圆硅片上“雕刻”的电路，越来越纳米级别大跨越式的精细了！
一颗硅基材料芯片中集成的晶体管，数量高达几百亿的实际技术实现中，研究人员发现：
混合了氖气（Ne）、氪气（Kr）、氙气（Xe）等稀有气体后，再光刻机镭射极光下能够发出波长更短的光线，波长越短、光线越细……
综合TrendForce公布的数据等资料来看：对氖气（Ne）材料需求极大的DUV深紫外光刻机技术产线，制程工艺“恰好”涵盖8英寸晶圆的180nm—12英寸晶圆的1Xnm范围~
大约近90%以上的DRAM芯片基于DUV技术产线，还有100%基于DUV技术产线的NAND Flash芯片！（显然EUV级别的光刻机也在“波及范围”之内……）
相关公开资讯提到：
2014年的那起“俄乌事件”导致氖气（Ne）供应价格飙升、据称暴涨了600%……
2015年那起“乌内部事件”导致氖气（Ne）从年初750元涨到7月25000元！（30倍）
截至2022年2月23日，就算是在我们可以实现自给自足的国内市场中，氖气价格1650元/立方米相较于2022年初的涨幅也高达65%，相对2021年10月“低点”已经翻了4倍！
关于芯片制造，乌克兰已经做出决定、ASML担心的事发生了：
乌克兰的当地两家供应了54%市场份额（主要是美日）的氖气（Ne）提纯厂商，暂停营运、停止出货……
诚然， 外界可以认为 氖气（Ne）作为钢铁产业“副产品”并不稀有、或者认为实现自主技术提纯的时间也来得及，但也应该会进一步想到：
一旦氖气（Ne）市场供应不足、导致芯片制造成本迅速拉高，必定波及到消费者购买手机、乃至智能模块加持的汽车价格……
全球市场化、市场全球化，荷兰ASML光刻机也免不了受冲击！
试问下：谁还能继续自信满满的说“没有必要推动科技自主化”？
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